離子鍍膜機(jī)涂層特點(diǎn)

來源:林上科技   發(fā)布時(shí)間:2013/01/24 12:52  瀏覽:5238
真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜機(jī)與蒸發(fā)鍍膜機(jī),濺射鍍膜機(jī)相比,最大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,一邊進(jìn)行沉積,生產(chǎn)過程中可用在線涂層測(cè)厚儀對(duì)鍍層厚度進(jìn)行監(jiān)測(cè)。

真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜機(jī)與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比,最大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,一邊進(jìn)行沉積。鍍膜生產(chǎn)過程中對(duì)鍍膜層厚度均勻性檢測(cè)至關(guān)重要,真空鍍薄膜可以通過透光率光密度光學(xué)性能來檢測(cè)鍍膜層厚度的均勻性,目前市場(chǎng)上林上科技有一款專業(yè)的在線涂層測(cè)厚儀可連續(xù)監(jiān)控鍍薄膜在線生產(chǎn)的鍍膜品質(zhì)。

離子鍍膜機(jī)

荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng),主要有如下幾點(diǎn):
? ? ? ?1:膜/基結(jié)合力(附著力)強(qiáng),膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用,使基體受到清洗,激活及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能,也提供了合金相形成的條件。而且,較高能量的離子轟擊,還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。
? ? ? ?2:離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下(≧1Pa)被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會(huì)遇到氣體分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且,被電離的膜材離子,還會(huì)在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上。因此,這一點(diǎn)蒸發(fā)鍍是無法達(dá)到的。
? ? ? ?3:鍍層質(zhì)量高。由于離子轟擊可提高膜的致密度,改善膜的組織結(jié)構(gòu),使得膜層的均勻度好,鍍層組織致密,針孔和氣泡少。因此,提高了膜層的質(zhì)量。
? ? ? ?4:沉積速率高,成膜速度快,可制備30um的厚膜。
? ? ? ?5:鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較廣泛。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料表面鍍膜。由于等離子體的活性有利于降低化合物的合成溫度,因此離子鍍比較容易地鍍制各種吵硬化合物薄膜。
? ? ? ?由于離子鍍膜機(jī)具有上述特點(diǎn),所以其應(yīng)用范圍極為廣泛。利用離子鍍技術(shù)可以子在金屬、合金、導(dǎo)電材料甚至非導(dǎo)電材料(采用高頻偏壓)基體上進(jìn)行鍍膜。離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜、多元合金膜、化合物膜;既可鍍單一鍍層,也可鍍復(fù)合膜層;還可以鍍梯度鍍層和納米多層鍍層。采用不同的膜材,不同的反應(yīng)氣體以及不同的工藝方法和參數(shù),可以獲得表面強(qiáng)化的硬質(zhì)耐磨鍍層,致密且化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定的耐蝕鍍層,固體潤(rùn)滑層,各種色澤的裝飾鍍層以及電子學(xué)、光學(xué)、能源科學(xué)等所需的特殊功能鍍層。離子鍍技術(shù)和離子鍍的鍍層產(chǎn)品已得到非常廣泛的應(yīng)用。

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