光密度檢測在真空鍍膜技術(shù)中的應(yīng)用

來源:林上科技   發(fā)布時間:2013/01/09 11:31  瀏覽:3660
真空鍍膜實是在高真空狀態(tài)下利用物理方法在鍍件的表面上鍍上一層薄膜的技術(shù),鍍膜厚度均勻性能反應(yīng)出產(chǎn)品品質(zhì),檢測鍍膜厚度市場上已有專業(yè)的光密度在線檢測儀。

真空鍍膜實質(zhì)上是在高真空狀態(tài)下利用物理方法在鍍件的表面上鍍上一層薄膜的技術(shù),它是一種物理現(xiàn)象。是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝;真空鍍膜按其方式不同可分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和現(xiàn)代發(fā)展起來的離子鍍膜。真空鍍膜在生產(chǎn)過程中鍍膜厚度的均勻性能反應(yīng)出鍍膜產(chǎn)品品質(zhì),真空鍍膜在線檢測如今市場上已有專業(yè)的檢測儀器---光密度在線檢測儀。
一些光學(xué)零件的光學(xué)表面需要用物理方法或化學(xué)方法鍍上一層或多層薄膜,使得光線經(jīng)過該表面的反射光特性或透射性特性發(fā)生變化,許多機械加工所采用的刀具表面也需要沉積一層致密的、結(jié)合牢固的超硬鍍層而使其得以硬化,延長其使用壽命,提高切削效率,從而改善被加工部件的精度和光潔度。目前,作為物理鍍膜方法的真空鍍膜,尤其是納米級超薄膜制作技術(shù),已廣泛地應(yīng)用在電真空、無線電、光學(xué)、原子學(xué)、空間技術(shù)等領(lǐng)域及我們的生活中。


真空鍍膜其中有一種光密度法,光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征;它用透光鏡測量。光密度沒有量綱單位,是一個對數(shù)值,通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。光密度和透光率成一定的反比關(guān)系,可以用公式來表示:OD=log10(入射光/透射光)或OD=log10(1/透光率)。即光密度是入射光與透射光比值的對數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對數(shù)。
通常鍍鋁膜的光密度值為1-3(即光線透過率為10%-0.1%),數(shù)值越大鍍鋁層越厚,美國國家標(biāo)準(zhǔn)局的ANSI/NAPM IT2.19對試驗條件做了詳細(xì)規(guī)定。
OD是optical density(光密度)的縮寫,表示被檢測物吸收掉的光密度,是檢測方法里出現(xiàn)的專有名詞。一般人理解較困難,具體檢測涉及到很多物理等方面知識。你只須知道是陰性即可光通過被檢測物,前后的能量差異即是被檢測物吸收掉的能量,特定波長下,同一種被檢測物的濃度與被吸收的能量成定量關(guān)系。檢測單位用OD值表示,OD=1og(1/trans),其中trans為檢測物的透光率值。

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