蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜的特點

來源:林上科技   發(fā)布時間:2012/03/19 08:34  瀏覽:4082
真空鍍膜是在較高真空度下進行的鍍膜,真空鍍膜應(yīng)用較多的是蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射兩種,鍍膜產(chǎn)品的光學(xué)性能可以根據(jù)產(chǎn)品的需求運用真空鍍膜在線測試儀進行檢測。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,真空鍍膜有很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。應(yīng)用較多的是蒸發(fā)和濺射兩種。蒸發(fā)鍍膜和磁探濺射鍍膜的特點如下:
? ? ? ?一、對于蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。
? ? ? ? 1、厚度均勻性主要取決于:A.基片材料與靶材的晶格匹配程度;B.基片表面溫度;C.蒸發(fā)功率、速率;D.真空度;E.鍍膜時間、厚度大小。
? ? ? ? 2、組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
? ? ? ? 3、晶向均勻性:1.晶格匹配度2.基片溫度3.蒸發(fā)速率二.濺射類鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。

真空鍍膜設(shè)備


???????二、磁控濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
? ? ? ?鍍膜產(chǎn)品的光學(xué)檢測可以根據(jù)產(chǎn)品的需求,運用真空鍍膜在線測試儀進行在線檢測和控制。

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